- •Глава 1. Введение
- •1.1. Классификация методов исследования наноструктур и поверхности твердого тела
- •1.2. Сверхвысокий вакуум
- •Глава 2. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
- •2.1. Общие замечания
- •2.2. Физические принципы РФЭС
- •2.3. Качественный анализ спектров
- •2.3.1. Спектроскопические обозначения уровней
- •2.4. Количественный анализ спектров. Расчет интенсивности
- •2.4.1. Характеристика процесса фотоионизации
- •2.4.2. Характеристика образца
- •2.4.3. Аппаратный фактор
- •2.4.4. Интенсивность фотоэлектронной линии
- •2.5. Количественный анализ спектров. Расчет энергии связи
- •2.6. Структура РФЭ спектров
- •2.6.1. Первичная структура РФЭ спектров
- •2.6.1.1. Остовные уровни
- •2.6.1.2. Спин-орбитальное расщепление уровней
- •2.6.1.3. Валентные уровни
- •2.6.1.4. Серии оже-переходов, возбуждаемых рентгеновским излучением
- •2.6.1.5. Сдвиг фотоэлектронных и оже-электронных линий
- •2.6.2. Вторичная структура РФЭ спектров
- •2.6.2.1. Ложные пики низкой интенсивности
- •2.7. Аппаратура для РФЭС
- •2.7.1. Источник рентгеновского излучения
- •2.7.2. Энергоанализатор
- •2.7.3. Детектор электронов
- •2.8. Использование метода РФЭС в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •2.8.1. Образование наноструктур на поверхности Si (100), индуцированное адсорбцией кислорода
- •2.8.3. Исследование кинетики роста островков оксидной фазы на поверхности Ni в окрестности точки Кюри
- •2.8.5. Эволюция электронной структуры нанокластеров благородных металлов
- •2.9. Контрольные вопросы к главе 2
- •3.1. Общие замечания и историческая справка
- •3.2. Физические основы ОЭС
- •3.3. Общий вид электронного спектра в ОЭС
- •3.4. Расчет кинетической энергии оже-электрона
- •3.5. Форма оже-электронных спектров
- •3.6. Тонкая структура оже-электронных спектров
- •3.8. Количественный анализ оже-электронных спектров
- •3.9. Сравнение характеристик ОЭС и РФЭС
- •3.10. Аппаратура для ОЭС
- •3.11. Использование метода ОЭС в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •3.12. Контрольные вопросы к главе 3
- •Глава 4. Спектроскопия рассеяния медленных ионов
- •4.1. Общие замечания
- •4.2. Физические основы СРМИ
- •4.3. Общий вид обзорного спектра РМИ
- •4.4. Интенсивность спектральных линий. Сечение рассеяния
- •4.5. Эффект нейтрализации ионов
- •4.6. Структурные эффекты в СРМИ
- •4.6.1. Эффект затенения
- •4.6.2. Эффект многократного рассеяния
- •4.6.3. Применение метода СРМИ для определения степени покрытия поверхности
- •4.6.4. Влияние структуры поверхности на линии спектров РМИ
- •4.7. Аппаратура СРМИ
- •4.8. Использование метода СРМИ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •4.8.1. Исследование in situ эволюции электронной структуры наноразмерных слоев HfO2 при отжиге в вакууме
- •4.8.2. Исследование начальной стадии окисления поверхности никеля
- •4.8.3. Возбуждение электрон-дырочных пар в процессе рассеяния ионов на поверхности нанокластеров Au
- •4.8.4. Исследование релаксации поверхности Ag(111) при нагреве методом СРБИ
- •4.9. Контрольные вопросы к главе 4
- •Глава 5. Сканирующая зондовая микроскопия
- •5.1. Введение
- •5.2. Физические основы СТМ
- •5.3. Аппаратура для СТМ
- •5.4. Физические основы АСМ
- •5.5. Использование методов СЗМ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •5.6. Контрольные вопросы к главе 5
- •Глава 6. Дифракция медленных электронов
- •6.1. Введение
- •6.2. Кристаллография поверхности
- •6.2.1. Трехмерные кристаллические решетки
- •6.2.2. Двумерные кристаллические решетки
- •6.2.3. Индексы Миллера для атомных плоскостей
- •6.3. Дифракция на кристаллической решетке
- •6.3.1. Дифракция на трехмерной решетке
- •6.3.2. Дифракция на двумерной решетке
- •6.4. Аппаратура, геометрия и структурные эффекты в ДМЭ
- •6.4.1. Влияние дефектов, доменной структуры и кластеров на поверхности
- •6.4.2. Учет тепловых колебаний атомов решетки
- •6.5. Использование метода ДМЭ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •6.6. Контрольные вопросы к главе 6
- •ЗАДАЧИ
- •Список рекомендуемой литературы
Глава 5. Сканирующая зондовая микроскопия
5.1.Введение
Впредыдущих разделах мы рассматривали спектроскопические методы, позволяющие получать информацию главным образом об элементном и химическом составе наноструктур и поверхностных слоев образца. Второй важнейшей задачей исследования поверхности является определения геометрического расположения атомов относительно друг друга и нижележащих слоев. В эту задачу входит:
-определение симметрии расположения атомов (поверхностной кристаллической решетки);
-определение расположения атомов в элементарной ячейке поверхностной решетки.
Эти задачи решаются микроскопическими и дифракционными методами исследования поверхности, к которым относятся:
-сканирующая зондовая микроскопия (СЗМ, включая СТМ и АСМ);
-сканирующая (растровая) электронная микроскопия (СЭМ/РЭМ);
-просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ);
-дифракция медленных электронов (ДМЭ).
Кметодам исследования поверхности и наноструктур, позволяющим анализировать взаимное расположение атомов, можно также отнести спектроскопию околопороговой области края поглощения рентгеновского излучения (XANES).
В данном главе мы будем рассматривать группу методов СЗМ, дающих возможность прямого наблюдения атомов поверхности. Методы СЗМ включают в себя:
-сканирующую туннельную микроскопию (СТМ);
-атомно-силовую микроскопию (АСМ);
183
-электронно-силовую микроскопию (ЭСМ);
-магнитно-силовую микроскопию (МСМ), а также их разновидности.
Основы метода СЗМ были заложены Гердом Биннигом (Gerd Binnig) и Генрихом Рорером (Heinrich Rohrer) из исследовательской лаборатории компании IBM в 1981 году, которые по праву считаются первооткрывателями метода СТМ.
Рис.5.1. Генрих Рорер (р.1933) (слева) и Герд Бинниг (р. 1947) (справа), изобретатели сканирующего туннельного микроскопа (Нобелевская премия по физике «за изобретение сканирующе-
го туннелирующего микроско-
па», 1986 г.) 42)
В 1986 г. Бинниг и Рорер разделили половину Нобелевской премии по физике «за изобретение сканирующего туннелирующего микроскопа». Другую половину премии получил Эрнст Руска за работу над электронным микроскопом. Награждая премией Биннига и Рорера, представитель Шведской королевской академии наук заявил: «Очевидно, что эта техника обещает чрезвычайно много и что мы до сих пор были свидетелями лишь начала ее развития. Многие исследовательские группы в различных областях науки пользуются сейчас сканирующим туннелирующим микроскопом. Изучение поверхностей является важной частью физики, особенно необходимой в физике полупроводников и в микроэлектронике. В химии поверхностные реакции тоже играют важную роль, например в катализе. Можно, кроме того, фиксировать органические молекулы на поверхности и изучать их строение. Среди прочих приложений эту технику можно использовать для исследования молекул ДНК». Вспоминая о том, что он чувствовал, узнав о награжде-
42) Фото с сайта: http://www.kfki.hu/~cheminfo/hun/teazo/naptar/binnig.html
184
нии, Бинниг отметил: «Это было прекрасно и ужасно одновременно», поскольку это было признанием большого успеха, но одновременно означало завершение «захватывающего открытия».
Методы СЗМ входят в большую группу микроскопических методов, однако только они позволяют «увидеть» отдельные атомы поверхности твердого тела.
Развитие микроскопических методов берет свое начало в XV веке от изобретения увеличительного стекла. В XVII веке Левенгуком был изобретен первый оптический микроскоп, который позволил установить существование отдельных клеток, микробов и бактерий. Однако сколь совершенными ни были бы оптические микроскопы, они никогда не позволят разрешить отдельные атомные структуры, поскольку длина волны видимого света почти в 2000 раз больше размер атома ( λ ~ 6000 Å, d ~ 3 Å). Попытка рассмотреть атомы
воптический микроскоп аналогична попытке заметить на теннисном корте трещину толщиной в человеческий волос судя по отскоку теннисного мяча!
Открытие квантовой механики и волновых свойств электрона в 1920-х годах послужило основой создания электронных микроскопов, работающих на принципе дифракции. Электронная микроскопия высокого разрешения позволяет видеть атомные плоскости и ряды, измерять межплоскостное расстояние, однако увидеть отдельно стоящий атом дифракционные методы не позволяют.
Чтобы сравнить характеристики по пространственному разрешению различных микроскопических методов, рассмотрим рис.5.2 Как видно из рисунка, наилучшим разрешением в плоскости обладают методы ПЭМ и СЗМ, однако первый заметно уступает второму по разрешению по высоте. Методы СЗМ дают уникальную возможность получения изображения поверхности с атомным разрешением по всем трем координатам.
Благодаря своим уникальным возможностям после своего изобретения метод СТМ получил бурное развитие, породив целую группу методов СЗМ. Уникальные возможности СЗМ заключаются
вследующем:
185
Рис.5.2. Сопоставление пространственного разрешения различных микроскопических методов: оптическая микроскопия (ОМ), растровая электронная микроскопия (РЭМ), просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ), ска-
нирующая зондовая микроскопия (СЗМ) 43)
1)постранственное разрешение в плоскости поверхности ~1 Å, в перпендикулярном направлении (по высоте) ~ 0.1 Å;
2)осутствие необходимости работы в условиях СВВ; возможность проведения исследований на атмосфере и в жидкости (в этом случае атомное разрешение достигается не всегда);
3)плучение информации о профиле поверхности, ее шероховатости, твердости, намагниченности, локальной работе выхода, плотности электронных состояний с атомным разрешением;
4) взможность работы в широком диапазоне температур
T= 4 ÷1000 К;
5)взможность создания комбинированных исследовательских комплексов (например. РЭМ-СТМ);
6)шрокий спектр исследуемых образцов (проводящие, непроводящие, магнитные, биологические).
Методы СЗМ нашли самое широкое применения в различных областях науки и техники:
- физика и химия поверхности на атомном уровне (адсорбция и рост островковых пленок, нанокатализ, поверхностные дефекты);
43) Й. Кук, П. Силверман // Приборы для науч. исслед., 2 (1989) с.3.
186