Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Борман Физические основы методов исследования 2008.pdf
Скачиваний:
584
Добавлен:
16.08.2013
Размер:
6.78 Mб
Скачать

Глава 5. Сканирующая зондовая микроскопия

5.1.Введение

Впредыдущих разделах мы рассматривали спектроскопические методы, позволяющие получать информацию главным образом об элементном и химическом составе наноструктур и поверхностных слоев образца. Второй важнейшей задачей исследования поверхности является определения геометрического расположения атомов относительно друг друга и нижележащих слоев. В эту задачу входит:

-определение симметрии расположения атомов (поверхностной кристаллической решетки);

-определение расположения атомов в элементарной ячейке поверхностной решетки.

Эти задачи решаются микроскопическими и дифракционными методами исследования поверхности, к которым относятся:

-сканирующая зондовая микроскопия (СЗМ, включая СТМ и АСМ);

-сканирующая (растровая) электронная микроскопия (СЭМ/РЭМ);

-просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ);

-дифракция медленных электронов (ДМЭ).

Кметодам исследования поверхности и наноструктур, позволяющим анализировать взаимное расположение атомов, можно также отнести спектроскопию околопороговой области края поглощения рентгеновского излучения (XANES).

В данном главе мы будем рассматривать группу методов СЗМ, дающих возможность прямого наблюдения атомов поверхности. Методы СЗМ включают в себя:

-сканирующую туннельную микроскопию (СТМ);

-атомно-силовую микроскопию (АСМ);

183

-электронно-силовую микроскопию (ЭСМ);

-магнитно-силовую микроскопию (МСМ), а также их разновидности.

Основы метода СЗМ были заложены Гердом Биннигом (Gerd Binnig) и Генрихом Рорером (Heinrich Rohrer) из исследовательской лаборатории компании IBM в 1981 году, которые по праву считаются первооткрывателями метода СТМ.

Рис.5.1. Генрих Рорер (р.1933) (слева) и Герд Бинниг (р. 1947) (справа), изобретатели сканирующего туннельного микроскопа (Нобелевская премия по физике «за изобретение сканирующе-

го туннелирующего микроско-

па», 1986 г.) 42)

В 1986 г. Бинниг и Рорер разделили половину Нобелевской премии по физике «за изобретение сканирующего туннелирующего микроскопа». Другую половину премии получил Эрнст Руска за работу над электронным микроскопом. Награждая премией Биннига и Рорера, представитель Шведской королевской академии наук заявил: «Очевидно, что эта техника обещает чрезвычайно много и что мы до сих пор были свидетелями лишь начала ее развития. Многие исследовательские группы в различных областях науки пользуются сейчас сканирующим туннелирующим микроскопом. Изучение поверхностей является важной частью физики, особенно необходимой в физике полупроводников и в микроэлектронике. В химии поверхностные реакции тоже играют важную роль, например в катализе. Можно, кроме того, фиксировать органические молекулы на поверхности и изучать их строение. Среди прочих приложений эту технику можно использовать для исследования молекул ДНК». Вспоминая о том, что он чувствовал, узнав о награжде-

42) Фото с сайта: http://www.kfki.hu/~cheminfo/hun/teazo/naptar/binnig.html

184

нии, Бинниг отметил: «Это было прекрасно и ужасно одновременно», поскольку это было признанием большого успеха, но одновременно означало завершение «захватывающего открытия».

Методы СЗМ входят в большую группу микроскопических методов, однако только они позволяют «увидеть» отдельные атомы поверхности твердого тела.

Развитие микроскопических методов берет свое начало в XV веке от изобретения увеличительного стекла. В XVII веке Левенгуком был изобретен первый оптический микроскоп, который позволил установить существование отдельных клеток, микробов и бактерий. Однако сколь совершенными ни были бы оптические микроскопы, они никогда не позволят разрешить отдельные атомные структуры, поскольку длина волны видимого света почти в 2000 раз больше размер атома ( λ ~ 6000 Å, d ~ 3 Å). Попытка рассмотреть атомы

воптический микроскоп аналогична попытке заметить на теннисном корте трещину толщиной в человеческий волос судя по отскоку теннисного мяча!

Открытие квантовой механики и волновых свойств электрона в 1920-х годах послужило основой создания электронных микроскопов, работающих на принципе дифракции. Электронная микроскопия высокого разрешения позволяет видеть атомные плоскости и ряды, измерять межплоскостное расстояние, однако увидеть отдельно стоящий атом дифракционные методы не позволяют.

Чтобы сравнить характеристики по пространственному разрешению различных микроскопических методов, рассмотрим рис.5.2 Как видно из рисунка, наилучшим разрешением в плоскости обладают методы ПЭМ и СЗМ, однако первый заметно уступает второму по разрешению по высоте. Методы СЗМ дают уникальную возможность получения изображения поверхности с атомным разрешением по всем трем координатам.

Благодаря своим уникальным возможностям после своего изобретения метод СТМ получил бурное развитие, породив целую группу методов СЗМ. Уникальные возможности СЗМ заключаются

вследующем:

185

Рис.5.2. Сопоставление пространственного разрешения различных микроскопических методов: оптическая микроскопия (ОМ), растровая электронная микроскопия (РЭМ), просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ), ска-

нирующая зондовая микроскопия (СЗМ) 43)

1)постранственное разрешение в плоскости поверхности ~1 Å, в перпендикулярном направлении (по высоте) ~ 0.1 Å;

2)осутствие необходимости работы в условиях СВВ; возможность проведения исследований на атмосфере и в жидкости (в этом случае атомное разрешение достигается не всегда);

3)плучение информации о профиле поверхности, ее шероховатости, твердости, намагниченности, локальной работе выхода, плотности электронных состояний с атомным разрешением;

4) взможность работы в широком диапазоне температур

T= 4 ÷1000 К;

5)взможность создания комбинированных исследовательских комплексов (например. РЭМ-СТМ);

6)шрокий спектр исследуемых образцов (проводящие, непроводящие, магнитные, биологические).

Методы СЗМ нашли самое широкое применения в различных областях науки и техники:

- физика и химия поверхности на атомном уровне (адсорбция и рост островковых пленок, нанокатализ, поверхностные дефекты);

43) Й. Кук, П. Силверман // Приборы для науч. исслед., 2 (1989) с.3.

186