- •1.Назначение, классификация и методы эфхмо.
- •2. Подготовка поверхности перед нанесением покрытий
- •3. Обезжиривание (уз, эх и хим.)
- •6.Общие сведения о травлении.
- •7. Химическое травление чёрных Ме.
- •8. Электрохимическое травление чёрных Ме.
- •9. Травление Cu и её сплавов.
- •10. Травление al и его сплавов.
- •11. Активирование (декопирование).
- •12. Пассивирование.
- •14. Условия полирования Ме.
- •15. Элекролитическое меднение.
- •16. Характеристика существующих электролитов меднения.
- •17. Основные применяемые электролиты меднения.
- •18. Электролитическое никилирование.
- •19. Сернокислые электролиты никилирования.
- •20. Электролиты блестящего никелирования.
- •22. Цианидные электролиты.
- •23. Нецианистые электролиты.
- •23А. Дополнительная обработка поверхности Ag и Ag-покрытий.
- •24. Улавливание Ag из отработанных эл-тов и снятие браков. Покрыт.
- •25. Электролитическое золочение.
- •26. Тонирование сплавов на основе золота. Открашивание.
- •27. Цианидные и щелочные электролиты.
- •28. Цианидные нейтральные электролиты.
- •29. Безцианидные электролиты золочения.
- •30. Электролиты блестящего золочения.
- •31. Получение цветных декоративных эффектов
- •32. Улавливание золота из отработанных электролитов.
- •33. Снятие бракованных Au покрытий с изделий.
- •34. Электолитическое родирование.
- •35. Сульфатные электролиты родирования.
- •36. Фосфатные электролиты родирования.
- •37. Основные преимущества импульсного электролиза
- •38. Роль импульсов и пауз в электродных процессах осаждения Ме.
- •40. Гальванопластика.
- •41. Изготовление моделей.
- •42. Очистка и обезжиривание поверхности модели.
- •43. Нанесение проводящих и разделительных слоёв.
- •44. Наращивание Ме и изготовление изделий.
- •45. Химическое осаждение Ме покрытий.
- •51. Окидные покрытия лёгких Ме.
- •52. Защитно-декоративные покрытия.
- •53. Сернокислые электролиты.
- •54. Эматалирование.
- •55. Окрашивание оксидных покрытий.
- •58. Химическое осаждение Al и его сплавов.
- •59. Оксидные покрытия стали.
- •60. Оксидные покрытия Cu и её сплавов.
- •61. Оксидные покрытия Cr и t.
- •62. Оксидные покрытия Ag.
- •63. Пассирование электролит. Покрытий и Ме.
- •64. Фосфатные покрытия чёрных Ме.
- •65. Фосфатные покрытия цветных Ме.
27. Цианидные и щелочные электролиты.
Основным их комп. явл. Au концентрац. 1-1,5г/л, в виде цианидного одновалентного комплекса [Au(CN)2]- и свобод. цианид K, концентр. 5-25г/л. наличие свободного цианида обеспечив. электропроводн. р-ра и нормальное протекание анодного процесса, как с раствор., так и с нераствор. анодами. Повышенное содерж.цианида предотвращает совместное осаждение с Au многих неблагород. Ме, что, несомненно, является преимуществом. Но, вместе с тем цианиды дают электролиту высокую токсичность, кроме того – в цианид.р-рах всегда присутств. формиаты, цианиты, мочевина и аммиак. Из таких р-ров часто с Au осажд. и органич. полимеры. Кроме того – в них накапливаются карбонаты, которые необходимо периодически удалять.
Эксплуатир. цианидн. электролиты при pH=11-12,ik 0,1 до 0,5 А/дм2 и t от 17-70гр.C. Катодная поляризация в них большая, что обусл. высок. рассеив. способн. и мелкокристалл. структ. осадка. Осаждение Au всегда сопровожд. выделением газообраз. H2. Поэтому, даже при малых ik тока катодный выход ню меньше 100% всегда. С повышением ik выход Au по току резко падает. Перемешив. электролита, а так же повышение концентрации Au, позволяет поднять выход по току. Чем выше концентр. Au, повыш. t и интенсивнее перемешивание, тем большую плотность тока ik можно использовать. Осадки, как правило, матовые. Введение блескообраз. добавок и ПАВ повышает отражат. способность и твёрдость Au-покрытий. Однако, такие электролиты не нашли широкого применения.
28. Цианидные нейтральные электролиты.
Они позволют получать более толстые Au-покрытия без промежуточного крацевания. по сравнению с щелочными они более производительны, т.к. выход ню ~100%. Они содержат до 10г/л (Au) в виде дицианоаурата калия и 1-2г/л свободного цианида калия. Кислотность ~ 6,5-7,5 поддерживают добавлением ортофосфорной к-ты. Электролиты чувствительны к различного рода примесям, накаплив. в прцессе эксплуатации. небольшая концентрация цианида вызывает склонность к пассиваированию растворимых анодов и нестабильность процесса. По этой причине эксплуатация их, как правило с нерастворимыми анодами и в основном использ. для осаждения сплавов Au.
ЦИАНИДНЫЕ КИСЛЫЕ ЭЛЕКТРОЛИТЫ.
Они обеспеч. получение полублестящихи и более твёрдых, но менее пластичных осадков, чем щелочные электролиты. при введении в них незначит. добавок, так Ме, как Ni, Co, Ag, Sn, покрытия приобретают интенсивный блеск. Важное преимущество таких электролитов невысокая t
эксплуатации, меньшая пористость покрытий и более высокая скорость их осаждения. Золочение цианидно-кислых эл-ов проводят при значительно больших ik … ню уменьшается и тем значительней, чем ниже t и pH электролита. кислые электролиты можно использовать в широком диапазоне t, однако, при повышении t понижается отражат. способность покрытий. Поэтому, повышенную t электролита допускают лишь в тех случаях, когда необходимо получить максимальный выход по току, вести электролиз при высокой плотности тока или понизить внутр. напряж. и пористость осадков. Обычно же кислые электролиты эксплуатир. при t ~ к комнат. 18-30гр.C. Как и нейтральн. их эксплуат. с нерастворим. кислотность в них поддерж. с помощью орган. кислот: лимонной, винной, щавелевой, молочной, др. Но рациональнее для этого использ. ортофосфорную разбавл. кислоту. Свободного цианида в электролите – нет, но золочение возможно, т.к. цианистый комплекс 3-валентного Au очень прочный и не разлагается при pH 3-6. Поляризуемость катода в кислых электролитах меньше, чем в щелочных, поэтому меньше и их рассеивающая способность ~ в 2-2,5раза. Недостатки этих электролитов – низкий ню ~ 40-50%, из-за их работы при низких t, около 20-25гр.C и повышенных плотностях тока, что является их преимуществом.
Так же недостат. стабильность р-ра, повышенные внутренние напряжения в получаемых гальванич. осадках, хотя и при меньшей пористости. Срок службы кислых электролитов во многом определ. накоплением в них вредных продуктов. Вредн. прим. явл. ионы Cu(~0,1г/л), Fe, свободного цианида и Pb, а так же многие органич. соединения. Наиболее опасны ионы Cu, их присутствие повышает внутр. напряж. осадков и понижает выход Au по току.