- •Федеральное агентство по образованию
- •Оглавление
- •Введение
- •Механизм взаимодействия металла с металлоидом и условия, необходимые для протекания процесса
- •Механизм процесса
- •Перемещение ионов под действием электрического поля
- •Характер перемещения ионов в идеальной кристаллической решетке
- •Перемещение ионов в неидеальной кристаллической решетке
- •Перемещение катионов при наличии вакансий в катионной подрешетке
- •Перемещение катионов при возможности их нахождения в междоузлиях
- •Образование тепловых дефектов кристаллической решетки
- •Общие положения
- •Возникновение точечных структурных дефектов кристаллической решетки в результате теплового движения
- •Возникновение точечных структурных дефектов при переходе ионов в междоузлие
- •Переход катиона из узла в междоузлие
- •Переход аниона из узла в междоузлие
- •Возникновение дефектов в результате перехода ионов из объема на поверхность или с поверхности в объем
- •Переход ионов из узлов в объеме кристалла в узлы над его поверхностью
- •Переход ионов из узлов на поверхности кристалла в его объем (в междоузлия)
- •Возникновение тепловых электронных дефектов
- •Константы равновесия процессов образования тепловых дефектов
- •Константа равновесия образования дефектов по Френкелю в катионной подрешетке
- •Константы равновесия образования других тепловых дефектов
- •Расчет равновесной концентрации тепловых дефектов
- •Типы структурной разупорядоченности кристаллов
- •Распространенность различных типов разупорядоченности
- •Образование дефектов нестехиометрии
- •Точечные структурные дефекты, обусловленные отклонением состава от стехиометрического
- •Тип «Френкель»
- •Тип «Шоттки»
- •Условия и механизм образования нестехиометрической фазы
- •Связь между давлением газообразного металлоида и составом равновесной твердой фазы
- •Механизм и равновесие возникновения недостатка металлоида (избытка металла)
- •Тип «Френкель»
- •Тип «Шоттки»
- •Механизм и равновесие возникновения избытка металлоида (недостатка металла)
- •Зависимости концентраций дефектов от давления металлоида в газовой фазе
- •Общие положения
- •Соотношение между константами равновесия процессов возникновения недостатка и избытка металлоида
- •Расчет равновесных концентраций дефектов при заданном давлении металлоида
- •Составление и решение системы уравнений
- •Приближенный метод построения зависимостей концентраций дефектов от давления металлоида Выбор системы координат для построения зависимостей
- •Построение приближенных зависимостей для кристалла с типом разупорядоченности «Френкель»
- •Расчет концентраций тепловых дефектов и значения
- •Определение концентраций дефектов при ≠
- •Построение диаграммы
- •Построение приближенных зависимостей для кристалла с типом разупорядоченности «Шоттки»
- •Расчет концентраций тепловых дефектов и значения
- •Определение концентраций дефектов при ≠
- •Построение диаграммы
- •Анализ характера зависимостей концентрации дефектов от давления металлоида в газовой фазе
- •Влияние примесей на равновесие дефектов в кристалле
- •Примеси, оказывающие наибольшее влияние на равновесие дефектов
- •Примеси замещения с зарядом катионов, превышающим заряд катионов матрицы
- •Примеси замещения с зарядом катионов меньшим, чем заряд катионов матрицы
- •Механизм и закономерности процесса образования твердого продукта (теория Карла Вагнера)
- •Механизм и условия протекания процесса
- •Электрическая схема процесса
- •Соотношения, определяющие силу тока
- •Уравнения скорости образования твердого продукта
- •Зависимость константы скорости от давления металлоида
- •Возможные лимитирующие стадии процесса
- •Константа скорости реакции при лимитирующем переносе заряда ионами Решение в общем виде
- •Константа скорости реакции при лимитирующем переносе заряда электронами
- •Анализ ожидаемых закономерностей процесса с помощью теории Вагнера
- •Характеристика образующегося продукта
- •Направление роста ZnO
- •Влияние давления кислорода на скорость реакции (на величину константы скорости)
- •Влияние примесей на скорость реакции (на величину константы скорости)
- •Закономерности протекания реакций с участием металла, имеющего несколько устойчивых степеней окисления
- •Характер образующейся оболочки
- •Закономерности образования многослойной оболочки
- •Соотношения между толщиной слоев
Анализ ожидаемых закономерностей процесса с помощью теории Вагнера
Анализ ожидаемых закономерностей охватывает три основные стороны процесса:
1) направление роста слоя твердого продукта реакции;
2) характер влияния давления металлоида на скорость образования продукта;
3) характер влияния неизовалентных катионных примесей замещения на скорость процесса.
Для анализа необходима следующая информация об образующемся твердом продукте:
- состав по отношению к стехиометрии (т. е. имеет ли образующаяся твердая фаза стехиометрический состав либо обогащена металлом или металлоидом);
- тип разупорядоченности;
- преобладающая проводимость (электронная или ионная).
Рассмотрим анализ ожидаемых закономерностей на примере окисления Zn до ZnO – эта реакция хорошо изучена, и предсказываемые закономерности можно сравнить с известными результатами экспериментов.
Характеристика образующегося продукта
Образующийся оксид цинка – фаза с избытком металла: даже при давлении кислорода 40 атм. максимальное содержание кислорода (граница области гомогенности со стороны кислорода) составляет 49,98% (атомн.).
Оксид цинка относится к типу разупорядоченности «Френкель».
Преобладающая проводимость оксида цинка – электронная.
Направление роста ZnO
Направление роста определяется тем, какой из ионов перемещается в решетке продукта (см. рис. 2). Если перемещаются катионы, новые плоскости образуются на границе II, со стороны металлоида. Самая первая кристаллографическая плоскость продукта образуется на поверхности металла, следующая – поверх нее и т. д., то есть каждая новая плоскость образуется поверх предыдущей – слой растет наружу. Если же перемещаются анионы, то новые плоскости образуются на границе I, со стороны металла. После образования на поверхности металла первой кристаллографической плоскости продукта следующая плоскость образуется под ней и т. д., то есть каждая новая плоскость образуется под предыдущей – слой растет внутрь.
То, какой из ионов перемещается в слое продукта, определяется преобладающим точечным структурным дефектом, а то, какой точечный структурный дефект преобладает – типом разупорядоченности кристалла и отклонением от стехиометрии (в сторону металла или металлоида).
Образующийся оксид цинка относится к типу разупорядоченности «Френкель», т. е. характерные для него точечные структурные дефекты – катионы в междоузлиях и вакансии катионов. А поскольку образующаяся фаза содержит избыток цинка, из этих дефектов преобладают катионы в междоузлиях. Преобладающий точечный структурный дефект обеспечивает возможность направленного перемещения катионов, следовательно, слой будет расти наружу – новые плоскости будут возникать поверх образовавшихся ранее. Следует отметить, что при типе разупорядоченности «Френкель» то же самое было бы и при недостатке металла – в этом случае преобладающим дефектом были бы вакансии катиона, а этот дефект также обеспечивает возможность направленного перемещения катионов.
Экспериментально направление роста слоя ZnO определяли следующим образом. На поверхность металла перед началом окисления напыляли метку – тонкий слой SiO2, не препятствующий диффузии ионов и легко обнаруживаемый на поперечном срезе с помощью микроанализатора. После окисления метка была обнаружена под слоем ZnO на границе Zn/ZnO (метка «заросла»). Это соответствует образованию новых плоскостей поверх образовавшихся ранее, т. е. росту наружу, в полном соответствии с тем, что ожидалось.